GA05型銅基底單層石墨烯(60 mm x 40 mm) CVD銅基單層石墨烯 銅基單層石墨烯膜
單層石墨烯膜
描述：
● 生長方法：CVD生長
● 外觀(顏色)：透明
● 光透過率：> 97%
● 外觀(形式)：薄膜
● 覆蓋率：> 95%
● 石墨烯層數(shù)：1層
● 厚度：0.345 nm
● 氧化鋁基底FET電子遷移率：2000 cm2/Vs
● 氧化硅/硅基底霍爾電子遷移率：4000 cm2/Vs
● 氧化硅/硅基底方阻：450±40 Ω／□
● 晶粒尺寸：達到10μm
● GA05型CVD銅基底單層石墨烯薄膜的尺寸：60mmX40mm。
銅箔襯底：
● 銅箔厚度：18μm
應(yīng)用領(lǐng)域：
Graphene research, Electronics, Aerospace industry, MEMS and NEMS, Microactuators, Conductive coatings
● GA05型銅基底單層石墨烯的拉曼光譜：
● GA05型銅基底單層石墨烯的HRTEM圖像
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